フォトレジスト用樹脂Products
Products
製品概要
当社は長年培ってきたフェノール樹脂の製造技術を応用し、フォトレジスト用樹脂（感光性樹脂）を製造しています。お客様のご要望に応じた配合および分子設計に対応し、豊富な経験と高度な技術を駆使して分子量分布を厳密に制御。ばらつきのない安定した製品を提供いたします。
特長
- お客様の要求に合わせた配合および分子設計に対応します。
- 高度な分子量制御により、現像液に対する溶解性の調整が可能です。
- 低分子から超高分子まで、幅広い分子量の樹脂を提供しています。
業界別事例
| 印刷業界 | 国内業界は時代の移り変わりによるニーズ変化により以前に比べて印刷枚数は落ち着いている様ですが、海外ではまだまだ大ロット印刷の需要が溢れております。 弊社ではそれら需要先で求められる高い耐刷性やそれぞれ異なる耐薬品性など様々なニーズに対応しております。 |
| 半導体業界 | プリント基板用として、シリコンウェハーにレジンを塗布し、微細なエッチングを施して製品化しております。そのためその工程に対応できる特殊変性樹脂をユーザーと協議しながら製造しております。 |
用途例
半導体用フォトレジスト、印刷用PS版、印刷用CTP版
製品表
| 品番 | 外観 | 軟化点（°C） | 重量平均分子量 | タイプ | 特徴 |
|---|---|---|---|---|---|
| LF-100 | 粒状 | 95～100 | 約5000 | メタパラクレゾールノボラック | アルカリ溶解性：中程度 |
| LF-120 | 粒状 | 110～120 | 約20000 | メタパラクレゾールノボラック | 硬度大 |
| LF-400 | 粒状 | 77～82 | 約600 | パラクレゾールノボラック | 低分子量 |
| LF-500 | 粒状 | 98～104 | 3000〜5000 | フェノールノボラック | アルカリ溶解性大調整用 |